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* Probenpräparation


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Im REM können unbearbeitete und unzerkleinerte Proben eingebaut werden bis zu einem Durchmesser von max. 200 mm. Für besondere Untersuchungen, z.B. der Kathodolumineszenz, werden hochglanzpolierte Dünn- oder Anschliffe verwendet, wie sie routinemäßig für die Elektronenstrahlmikrosonde hergestellt werden. Zur schonenden Oberflächenpräparation ohne mechanische Bearbeitung, z.B. für EBSD, steht ein weiteres Gerät zur Verfügung, das die Probenoberfläche mit einem Argon-Ionenstrahl abträgt (cross section polisher).


Cross section polisher

Der cross section polisher (Jeol) trägt mit Hilfe eines Argon-Ionenstrahls eine etwa 10mm x 2mm große Probenoberfläche so schonend ab, dass auch die obersten Nanometer der Probenoberfläche kristallographisch erhalten bleiben . Sie werden nicht, wie bei einer mechanischen Politur, mechanisch deformiert. Als Probe können alle Arten von festen Stoffen verwendet werden, von Papier bis zu Diamant. Probenoberflächen, die auf diese Weise herstellt wurden, sind optimal geeignet z.B. für die Untersuchung mit EBSD.

Si-wafer - Bitte anklicken für eine Vollbilddarstellung Das Foto zeigt eine glatte
Oberfläche eines Si- Wafers,
die mit dem cross section polisher
hergestellt wurde.
 

 


Bedampfung

Je nach Fragestellung der Untersuchungen und nach Beschaffenheit der Proben wird die Probenoberfläche dünn mit Kohlenstoff bedampft oder mit Gold besputtert. Diese elektrisch leitfähige Schicht gewährleistet die Ableitung der Elektronen von der Probenoberfläche. In besonderen Fällen ist es möglich, nicht bedampfte Proben bei niedriger Hochspannung zu untersuchen.


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geändert am 01. Februar 2010  E-Mail: Webmasterkautz@kristall.uni-frankfurt.de

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Druckversion: 01. Februar 2010, 14:02
http://www.uni-frankfurt.de/fb/fb11/ifg/ausstattung/rem/probenpraeparation/index.html